TFT-LCD انڈسٹری

TFT-LCD مینوفیکچرنگ کے عمل میں CVD جمع کرنے کے عمل میں استعمال ہونے والی خصوصی گیس: سائلین (S1H4)، امونیا (NH3)، فاسفورن (pH3)، ہنسی (N2O)، NF3، وغیرہ، اور عمل کے عمل کے علاوہ اعلیٰ طہارت ہائیڈروجن اور اعلی طہارت نائٹروجن اور دیگر بڑی گیسیں۔ارگون گیس تھوکنے کے عمل میں استعمال ہوتی ہے، اور اسپٹرنگ فلم گیس اسپٹرنگ کا بنیادی مواد ہے۔سب سے پہلے، فلم بنانے والی گیس کا ہدف کے ساتھ کیمیائی طور پر رد عمل نہیں کیا جا سکتا، اور سب سے موزوں گیس ایک غیر فعال گیس ہے۔اینچنگ کے عمل میں بڑی مقدار میں خصوصی گیس بھی استعمال کی جائے گی، اور الیکٹرانک اسپیشل گیس زیادہ تر آتش گیر اور دھماکہ خیز، اور انتہائی زہریلی گیس ہے، اس لیے گیس کے راستے کی ضروریات زیادہ ہیں۔ووفلائی ٹیکنالوجی انتہائی اعلیٰ پیوریٹی ٹرانسپورٹیشن سسٹمز کے ڈیزائن اور انسٹالیشن میں مہارت رکھتی ہے۔

خصوصی گیسیں بنیادی طور پر LCD صنعت میں فلم بنانے اور خشک کرنے کے عمل میں استعمال ہوتی ہیں۔مائع کرسٹل ڈسپلے میں مختلف قسم کی درجہ بندی ہے، جہاں TFT-LCD تیز ہے، امیجنگ کوالٹی زیادہ ہے، اور لاگت آہستہ آہستہ کم ہوتی ہے، اور اس وقت سب سے زیادہ استعمال ہونے والی LCD ٹیکنالوجی استعمال کی جاتی ہے۔TFT-LCD پینل کے مینوفیکچرنگ کے عمل کو تین بڑے مراحل میں تقسیم کیا جا سکتا ہے: سامنے کی صف، درمیانے درجے پر مبنی باکسنگ عمل (CELL)، اور پوسٹ سٹیج ماڈیول اسمبلی کا عمل۔الیکٹرانک اسپیشل گیس بنیادی طور پر پچھلے صف کے عمل کے فلم کی تشکیل اور خشک کرنے کے مرحلے پر لاگو ہوتی ہے، اور ایک SiNX نان میٹل فلم اور بالترتیب ایک گیٹ، سورس، ڈرین اور آئی ٹی او جمع کیا جاتا ہے، اور ایک دھاتی فلم جیسے گیٹ، ماخذ، ڈرین اور آئی ٹی او۔

نائٹروجن / آکسیجن / آرگن سٹینلیس سٹیل 316 نیم خودکار تبدیلی گیس کنٹرول پینل